EDI超纯水系统成品图：

0.5吨超纯水系统如图上(主机尺寸：长：2300mm *宽：800mm *高：1700mm)

2吨edi超纯水系统 如图上(主机尺寸：长：2300mm *宽：1250mm *高：1700mm)

5吨超纯水系统如图上(主机尺寸：长：2500mm *宽：1500mm *高：100mm)

工业纯水设备 询价热线：0755-2103 0293 （技术何工：181-4586-2853(微信damage4318) ）

edi超纯水系统：

作为先进的超纯水处理系统服务商，科大环保以膜分离、edi电除盐等前沿的水处理技术开发及应用为主导，从事高精工业领域的纯水、高纯水及超纯水的工艺设计、水处理系统的加工制造、安装调试及技术培训等业务，根据用户的不同需求量身定制所需的加工、配制、清洗、冷却等各工艺环节用水的整体水系统解决方案。

edi超纯水系统性能稳定，其简易性、自动化程度、生产的可持续性完全满足工业超纯水的严格要求；提供配套的新机生产、原机扩展、工艺改进、技术支持、运行维护等服务。

EDI超纯水系统特点：

⊙ 产水水质高而稳定；

⊙ 连续不间断制水，不因再生而停机；

⊙ 无需化学药剂再生；

⊙ 设想周到的堆叠式设计，占地面积小；

⊙ 操作简单、安全；

⊙ 运行费用及维修成本低；

⊙ 无酸碱储备及运输费用；

⊙ 全自动运行，无需专人看护。

纯水处理技术的发展主要经历了阴、阳离子交换器+混合离子交换器;反渗透+混合离子交换器;反渗透+电去离子装置等阶段。预处理 + 反渗透 + 电去离子整套除盐系统，有著其他处理系统无可比拟的优点，正被广泛应用于纯水、高纯水的制备中。

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EDI超纯水系统应用领域：

⊙ 电子半导体材料、器件、电解电容生产铝箔及工作件的清洗用水；

⊙ 显像管、荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管径的清洗用水；

⊙ 液晶显示屏生产过程中清洗所用的配液用水；

⊙ 电子芯片生产中，主要用于清洗硅晶元，另有少量用于药液配制及切割用水；

⊙ 集成电路生产中清洗硅片所用的高纯水、高品质显像管、荧光粉生产用水；

⊙ LCD、LED液晶显示屏、PDP等离子显示屏工艺用水；

⊙ 光伏产品晶片切割制造及光电产品生产用水；

⊙ 蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水；

⊙ 电镀、涂装、汽车、金属及其他高端精密机械、精微产品表面处理用水；

⊙ 金属、化工、生物等领域研究所用水；

⊙ 航天、天文、核电等军工企业，科研单位生产加工用水。

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执行标准：

⊙ GB/T11446.1-1997《中国国家电子级水》

⊙ JB/T7621-1994《电力半导体器件工艺用高纯水》

⊙ GB6682-2008《分析实验室用水国家标准》

⊙  ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

⊙ GMP认证标准

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